冷場掃描電鏡與熱場掃描電鏡的區別主要體現在以下幾個方面：

適用范圍：冷場發射掃描電鏡主要應用于材料科學和化學領域，而熱場發射掃描電鏡則廣泛應用于物理學、材料科學、能源科學技術等領域。因此，熱場發射掃描電鏡的使用范圍相對更廣。

技術指標：冷場發射掃描電鏡的分辨率在15kV時可以達到1.0nm，放大倍率范圍在×20到×800,000，加速電壓在0.5到30kV之間。而熱場發射掃描電鏡的放大倍數通常在35到90萬倍之間，分辨率在15kV時也可以達到1.0nm，加速電壓范圍在0.2kV到30kV之間。此外，熱場發射掃描電鏡的能譜探測元素范圍更廣，能量分辨率也更高。

主要功能：冷場發射掃描電鏡主要側重于超顯微、形貌與成分分析相結合的功能。而熱場發射掃描電鏡則更多地應用于物理學、材料科學和能源科學技術等領域的研究。

環境要求：冷場發射掃描電鏡對真空條件的要求較高，束流不穩定，發射體使用壽命較短，需要定時對針尖進行清洗，因此其應用范圍相對有限。而熱場發射掃描電鏡則可以連續工作較長時間，并且可以與多種附件搭配實現綜合分析，因此其應用更為廣泛。

維護成本：冷場發射掃描電鏡的維護成本相對較低，維護要求也不算高。而熱場發射掃描電鏡的維護成本相對較高，維護要求也更高。

綜上所述，冷場掃描電鏡與熱場掃描電鏡在適用范圍、技術指標、主要功能、環境要求以及維護成本等方面存在明顯的區別。具體選擇哪種類型的掃描電鏡需要根據研究需求和實驗條件進行綜合考慮。