掃描電鏡中的低真空模式是一種操作模式，通常用于特定樣品或情況下，具有一些特定的作用和優(yōu)勢：

樣品準備靈活性： 低真空模式適用于未經(jīng)金屬涂層的非導電或半導電樣品。這意味著您可以在不進行樣品導電涂層的情況下觀察這些樣品，從而減少樣品準備的復雜性和可能的偽像。

減少樣品損傷： 低真空模式通常使用較低的電子束能量，因此可以減少電子束對樣品表面的輻射損傷。這對于某些敏感樣品，如生物樣品或有機材料，非常重要。

減少樣品充電： 在低真空模式下，由于存在氣體分子，電子束與樣品之間的電荷交換更少，從而減少了樣品表面的電荷積累。這有助于減少圖像中的偽影和提高圖像質(zhì)量。

非導電樣品的觀察： 低真空模式使得可以在不導電的樣品上進行觀察，這對于礦物學、地質(zhì)學和生物學等領域的研究很有幫助。

適用于粗糙樣品： 低真空模式可以用于觀察表面粗糙或不均勻的樣品，因為它不會受到高真空模式下氣體抽取的限制。