通過掃描電鏡可以測量和分析顆粒的尺寸和形狀。以下是一般的步驟和方法：

樣品制備：準備包含顆粒的樣品，并確保樣品表面平整、干燥和導電性良好。可以使用不同的方法，如離心沉淀、沉積、過濾或噴涂等來制備樣品。

樣品固定：將樣品固定在SEM掃描電鏡樣品支架上，通常使用導電性的雙面膠或導電性碳膠將樣品粘貼在支架上，以確保樣品與掃描電鏡中的電子束良好接觸。

調整參數：根據樣品的性質和需求，調整SEM掃描電鏡的參數。這包括選擇適當的電子加速電壓、工作距離和電子束的聚焦等。

掃描圖像：通過掃描電鏡獲取顆粒的掃描圖像。選擇合適的放大倍數和掃描速度，使用電子束掃描樣品表面，生成高分辨率的圖像。

計算尺寸和形狀：使用圖像處理軟件或SEM掃描電鏡設備自帶的分析工具，對顆粒的圖像進行處理和分析。以下是常用的方法：

直接測量：在圖像中使用測量工具，手動測量顆粒的直徑、長度、寬度等參數。

閾值分割：通過設定閾值，將圖像中的顆粒與背景區分開，然后進行形狀分析，如圓度、長寬比等。

形態學分析：使用形態學算法，如開運算、閉運算等，去除噪音并對顆粒邊界進行平滑處理，以獲得更準確的形狀分析結果。

數據統計和分析：對測量的顆粒尺寸和形狀數據進行統計和分析。可以計算平均尺寸、尺寸分布、形狀參數等，并生成統計圖表或報告。

需要注意的是，準確測量和分析顆粒的尺寸和形狀需要一定的經驗和合適的樣品制備。還要注意樣品表面的充電效應和電子束對樣品的熱損傷等因素可能對結果產生影響。因此，在進行測量和分析時，應遵循合適的操作方法和儀器使用指導，并進行多次重復測量以確保結果的可靠性和準確性。